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                歡迎光臨精藝興業(yè)~

                400-0592-051

                產(chǎn)品目錄

                百迪ECL發(fā)光液100ml

                品名: 百迪ECL發(fā)光液100ml
                型號(hào): A506-100
                • 產(chǎn)品詳情
                • 規(guī)格參數(shù)

                產(chǎn)品信息

                適用范圍試劑
                使用方法1. 執(zhí)行常規(guī) SDS-PAGE、轉(zhuǎn)膜和抗體孵育步驟,最后一次洗膜結(jié)束后配制發(fā)光工作液,分別取等體積的 A 液和 B 液混勻(注意吸取 A 液和 B 液時(shí)更換槍頭,避免試劑交叉污染);
                2. 用鑷子將洗好的印跡膜取出,去除多余的洗滌液,放置在潔凈的顯影板上,盡量避免氣泡;
                3. 根據(jù)膜的大小,滴加相應(yīng)體積配制好的 ECL 工作液到膜上,確保工作液均勻覆蓋在整張膜上并且確保膜不會(huì)變干,放置 1-3 分鐘(工作液現(xiàn)配現(xiàn)用,長(zhǎng)時(shí)間放置靈敏度會(huì)有所降低)。
                4. 化學(xué)發(fā)光成像儀檢測(cè):將膜放置到化學(xué)發(fā)光成像儀內(nèi),參考儀器說(shuō)明書進(jìn)行檢測(cè)。
                注意事項(xiàng)1. 為獲得最佳效果,可根據(jù)具體實(shí)驗(yàn)要求調(diào)整實(shí)驗(yàn)條件,選擇最適的封閉液及一抗二抗稀釋倍數(shù)等;
                2. 疊氮鈉是 HRP 的抑制物,不要使用疊氮鈉作為緩沖液的防腐劑。
                3. 實(shí)驗(yàn)過(guò)程中一定要佩戴手套并使用干凈的鑷子,避免印跡膜沾染任何可能造成污染的雜質(zhì),使用的金屬裝置(如剪刀)必須沒(méi)有明顯的銹跡;
                4. 實(shí)驗(yàn)過(guò)程中防止印跡膜變干,若膜變干需用甲醇進(jìn)行再次激活;
                5. 盡量在避光條件下使用 ECL 發(fā)光工作液,應(yīng)避免長(zhǎng)期暴露在強(qiáng)光下。
                6. 本產(chǎn)品僅作科研用途。
                聲明僅用于科研使用,不能用于臨床診斷和治療。
                保存條件2°C-8°C 保存,有效期12個(gè)月。

                產(chǎn)品詳情

                ECL 化學(xué)發(fā)光底物(增強(qiáng)型)是一種基于發(fā)光氨的增強(qiáng)型化學(xué)發(fā)光底物,用于在免疫印跡膜上辣根過(guò)氧化物酶(HRP)的入門級(jí)檢測(cè)。ECL 化學(xué)發(fā)光底物(增強(qiáng)型)通過(guò)在 HRP 和過(guò)氧化物的存在下氧化發(fā)光氨來(lái)實(shí)現(xiàn)皮克級(jí)蛋白樣品檢測(cè):
                1. 靈敏度:皮克級(jí);
                2. 穩(wěn)定性:4°C 下,工作溶液可保持穩(wěn)定 24 小時(shí),試劑盒可保持穩(wěn)定 1 年;
                3. 兼容性:硝酸纖維素膜和 PVDF 膜;
                4. 信號(hào)持續(xù)時(shí)間:大于 24 小時(shí);
                5. 推薦的一抗?jié)舛龋?:1000–1:5000 稀釋度 (0.2–10 μg/mL);
                6. 推薦的二抗?jié)舛龋?:1000–1:15000 稀釋度 (0.07–1.0 μg/mL);
                7. 簡(jiǎn)單易用:ECL 化學(xué)發(fā)光底物(增強(qiáng)型)與其他標(biāo)準(zhǔn) ECL 底物具備同等的可靠性和性能,可直接取代其它品牌產(chǎn)品無(wú)需進(jìn)行特別優(yōu)化;


                暫無(wú)內(nèi)容...
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